GPM-2-300光谱磨平机
1. 无级调速控制
2. 下方配有吸尘装置,可吸走磨削物
3. 安全锁扣,1/4磨面,保护操作员
适用于光谱研究的试样磨平。
在金相试样制备和光谱分析应用中,试样的磨平是金相制样和光谱分析前必不可少的重要工序。GPM-2-300型光谱磨平机整机采用喷塑工艺制作,双盘独立控制,磨盘无级调速,独特罩壳设计可有效保障磨样安全,机箱内装有吸尘装置可避免环境污染,该机启动平稳、传动功率大、噪音低,可满足不同材料的制备要求,提高试样的磨抛质量和制备效率,是一种非常理想和功能完善的金相制样制备。
型号 |
GMP-2-300 |
磨盘直径 |
300mm |
砂纸直径 |
300mm |
转速 |
无级调速100~1400r/min 或四档速300, 600, 900, 1400 r/min |
转向 |
顺时针或逆时针 |
电机功率 |
550W |
显示及操作 |
数码管显示,薄膜按键操作,带吸尘装置 |
输入电源 |
单相220V, 50Hz, 10A |
外形尺寸 |
820×440×940mm |
净重 |
122kg |
品牌: | 宇舟 |
型号: | GPM-2-300 |
电源电压: | 380V |
空载转速: | 1400 r/min |
回转数: | 1400 r/min |
额定输入功率: | 550 W |
输出功率: | 550 W |
类型: | 光谱磨平机 |