韩国Ellipso光谱椭偏仪Elli-SE

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北京朗铭润德光电科技有限公司

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薄膜厚度测量系统
光谱椭圆测量仪(SE)是一种工业标准技术，可以精确测量薄膜的厚度和光学常数，同时，它也被用于各种材料(如电介质、半导体、有机物等)的表征，包括AR涂层、OLED和低(高)-k材料。
特点
1.Easy Operation & Fast Measurement
1.操作简单，快速测量
2.High Reproducibility
2.高重现性
3.User-Friendly Operation
3.人性化操作
4.Non-contact & Non-destructive
4.非接触&无损伤
5.Multi-Layer Measurement
5.多膜层
6.In-Situ (Sutter, ALD,PECVD etc.)
6.在线测量（磁控溅射,ALD,PECVD,等等）
应用
·Thickness of Dielectrics, Semiconductors, Polymers,
介质层，半导体，聚合物的厚度测量
·Supporting Backside/Front side Reflections
支持正反面反射
·Very Thin Films, Very Thick Films
非常薄膜层，非常厚膜层
·Variable Substrates (Silicon, GaAs, Al, Steel, Glass, Al2O3, PC, PET, Polymer films and Others)
多种衬底（Silicon, GaAs, , Al, Steel, Glass, Al2O3, PC, PET, Polymer以及其他膜层）
Semiconductor: Si, Ge, ONO, ZnO, PR, poly-Si, GaN, GaAs, Si3N4
半导体材料：Si, Ge, ONO, ZnO, PR, poly-Si, GaN, GaAs, Si3N4
- Display(incl. OLED) : ITO, PR, MgO, Alq3 , CuPc, PVK, PAF, PEDT-PSS, NPB, SiO2 , ONO
显示（包括OLED）：ITO, PR, MgO, Alq3, CuPc, PVK, PAF, PEDT-PSS, NPB, SiO2, ONO
- Dielectrics: SiO2, TiO2, Ta2O5, ITO, AIN, ZrO2, Si3N4, Ga2O3, Wet oxides
介质：SiO2 , TiO2 , Ta2O5 , ITO, AIN, ZrO2 , Si3N4 , Ga2O3 , 湿式氧化物
- Polymer: Dye, NPB, MNA, PVA, PET, TAC, PR
聚合物：Dye, NPB, MNA, PVA, PET, TAC, PR
- Chemistry: Organic film(OLED) & LB Thin film
化合物：有机膜（OLED）&LB膜
- Solar cell: SiN, a-Si, poly-Si, SiO2 , Al2O3
太阳能电池：SiN, a-Si, poly-Si, SiO2, Al2O3

指标特点	Elli-SE	μ-Spot Spectroscopic Ellipsometer
图片
测量常数	膜层厚度，折射率n，消光系数k，波长λ	膜层厚度，折射率n，消光系数k，波长λ
膜厚范围	亚埃级-10微米（取决于膜层）	亚埃级-10微米（取决于膜层）
波长范围	240 ~ 1050 nm （紫外线） or 380 ~ 1050 nm 光谱范围选项：Duv深紫外:193nm, IR红外: 900nm ~ 1700nm, 900nm~ 2,200nm	240 ~ 1050 nm（紫外线）光谱范围选项：Duv深紫外:190nm, IR红外: 900nm ~ 1700nm, 900nm~ 2,200nm
测量能力	正常模式（~10 sec）快速（1~3 sec）每点（取决于膜层）	正常模式（~10 sec）快速（1~3 sec）每点（取决于膜层）
束斑直径-尺寸	1.5 mm (可选 100μm, 50 μm, 20 μm)	10μm, 25 μm, 50 μm, 100μm
入射角	45°~90°（自动变换角度）	45°~90°（自动变换角度）
膜层数量	多至10层（取决于膜层）	多至10层（取决于膜层）
重复性	10次测量在(3σ) ±0.3 Å	10次测量在(3σ) ±0.3 Å
色散关系	Cauchy, Sellmeier, Lorentz, Tauc-Lorentz, Quantum-Mechanical（量子力学）, Drude-TL, Drude-QM 等	Cauchy, Sellmeier, Lorentz, Tauc-Lorentz, Quantum-Mechanical（量子力学）, Drude-TL, Drude-QM等
提供功能	折射率、消光系数和光带隙薄膜密度和组成，材料的色散函数库用户定义的模型功能，数据导入和导出功能，可扩展库	折射率、消光系数和光带隙薄膜密度和组成，材料的色散函数库用户定义的模型功能，数据导入和导出功能，可扩展库
应用	介质层，半导体，聚合物的厚度测量、支持正反面反射、非常薄膜层，非常厚膜层、多种衬底、半导体材料、显示、介质、聚合物、化合物、太阳能电池	介质层，半导体，聚合物的厚度测量、支持正反面反射、非常薄膜层，非常厚膜层、多种衬底、半导体材料、显示、介质、聚合物、化合物、太阳能电池

品牌：	韩国Ellipso
型号：	Elli-SE
加工定制：	是
测量精度：	10次测量在(3σ) ±0.3 Å °
用途：	探测薄膜厚度、光学常数以及材料