TystarLPCVD低压化学气相沉积设备迷你Tytan3600

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北京

北京朗铭润德光电科技有限公司

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系统概述：
自上个世纪80 年代初期开始，TYTAN 炉系统开始服务于半导体产业。现在它不仅为半导体产业创造价值，同样正在为MEMS产业创造价值。TYTAN 炉系统能够提供多种工艺，如扩散，氧化，退火和低压化学气相沉积（LPCVD) 工艺。
迷你型TYTAN炉：
迷你型TYTAN 炉系统是专为氧化, 扩散和低压化学气相沉积应用而设计的。与其它相同产能的常规炉系统相比，它具有结构紧凑，占地空间小和省电等优势。它的关键设计和性能特性包括:

创新性热能设计
占地空间小
优良的工艺均匀性
设备开机率优于 95%
庞大的客户网络
专家服务
节省(50%)电能和气体消耗
便于保养和服务

常压工艺：

氧化工艺（湿法，干法）
固态源扩散（BN,P2O5）
液态源扩散（POCl3,BBr3）
退火
纳米材料
烧结+合金
低压化学气相沉积和工艺：
掺杂多晶硅和非晶硅 LPCVD
多晶硅 LPCVD（使用硅烷或乙硅烷）
低温氧化硅，掺杂性低温氧化硅，硼磷硅玻璃，硼硅玻璃和磷硅玻璃LPCVD
高温氧化硅LPCVD
TEOS氧化硅LPCVD
氮化硅LPCVD（低应力型，标准型）
硅锗（Si-Ge）LPCVD
掺氧半绝缘多晶硅，碳化硅
外延硅
纳米材料LPCVD
关键设计和性能特点：
创新性热能设计
占地空间小
优良的工艺均匀性
设备开机率优于95%
庞大的客户网络
专家服务
节省（50%）电能和气体消耗
便于保养和服务
迷你TYTAN炉系统对照表：

炉系统型号	1600	1800	3600	3800	4600
衬底尺寸	6’’	8’’	6’’	8’’	6’’
炉管数量	1 TUBE	1 TUBE	≤3 TUBES	≤3 TUBES	≤4 TUBES
单管产能	100 ATM 50 LPCVD	100 ATM 50 LPCVD	100 ATM 50 LPCVD	100 ATM 50 LPCVD	100 ATM 50 LPCVD
恒温区长度	18’’/457 mm	18’’/457 mm	18’’/457 mm	18’’/457 mm	18’’/457 mm
设备尺寸 (长度, 高度, 宽度)	L 63’’/1600 mm	L 63’’/1600 mm	L 126’’/3200 mm	L 134’’/3404 mm	L 127’’/3226 mm
	H 54’’/1372mm	H 54’’/1372mm	H 69’’/1753mm	H 82’’/2083mm	H 82’’/2083mm
	D 30’’/762 mm	D 30’’/762 mm	D 30’’/762 mm	D 30’’/762 mm	D 30’’/762 mm
*大消耗电功率	18 KVA	28 KVA	40 KVA	45 KVA	50 KVA

加工定制：	是
品牌：	Tystar
型号：	迷你Tytan3600