一、设备介绍
不锈钢水冷壁腔室壁真空快速退火炉(快速热处理炉)

具有4英寸(100 mm) 和 6英寸 (150 mm) 两种版本

二、性能和特征

• 可处理4-inch 及以下和 6-inch 及以下的晶圆
• 可适用大范围类型的基片：硅和化合物半导体晶圆，GaN /蓝宝石和碳化硅晶圆，多晶硅晶圆，玻璃，金属，高分子聚合物，石墨和碳化硅托盘等等。
• 设备应用具有：硒化、硫化、接触退火，注入退火，RTO (快速热氧化) ，RTN (快速热氮化) ，硅平滑，扩散，致密化和结晶化，石墨烯CVD，碳纳米管等。
• 不锈钢水冷腔壁技术，高工艺复现性，超洁净及无污染环境
• 高冷却速率，低记忆效应
• 具有真空能力，可选配分子泵
• 温度控制：高温计和热电偶控制+快速数字PID温度控制器
• 边缘高温计视口，确保用于化合物半导体和小型样品
• 基片托的温度控制

三、快速退火炉的具体参数

• 温度范围: 室温至1250°C（AS-One100）、室温至1450°C（AS-One100HT）、室温至1200°C（AS-One150）、室温至1300°C（AS-One150HT）、
• 升温速率：可达200°C/s（AS-One100），可达150°C/s（AS-One150）
• 特殊配置下冷却速率达 100°C/s（选配快速冷却装置）
• 可配5条带质量流量控制器（MFC）的工艺气路
• 标配一条吹扫气路
• 具有真空能力，配备干泵，可选配分子泵