催化剂高速胶体磨,催化剂胶体磨,14000转催化剂胶体磨,德国催化剂胶体磨,工业化高速胶体磨是

催化剂粉碎机  ，催化剂研磨设备是 透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

绝大多数催化剂有三类可以区分的组分：活性组分、载体、助催化剂。

活性组分

活性组分是催化剂的主要成分，有时由一种物质组成，有时由多种物质组成。
活性组分分类：

类别	导电性（反应类型）	催化反应举例
金属	导电体（氧化反应，还原反应）	选择性加氢；选择性氢解；选择性氧化
过渡金属氧化物、硫化物	半导体（氧化还原）	选择性加氢、脱氢；氢解；氧化
非过渡元素氧化物	绝缘体（碳离子反应，酸碱反应）	聚合、异构；裂化；脱水

载体

载体是催化活性组分的分散剂、黏合剂或支撑体，是负载活性组分的骨架。将活性组分、助催化剂组分负载于载体上所制得的催化剂成为负载型催化剂。
常用载体的类型：低比表面积的有：刚玉、碳化硅、浮石、硅藻土、石棉、耐火砖；高比表面积的有：氧化铝、SiO2-Al2O3、铁矾土、白土、氧化镁、硅胶、活性炭。

助催化剂

助催化剂是加入到催化剂中的少量物质，是催化剂的辅助成分，其本身没有活性或者活性很小，但是它们加入到催化剂中后，可以改变催化剂的化学组成、化学结构、离子价态、酸碱性、晶格结构、表面结构、孔结构、分散状态、机械强度等，从而提高催化剂的活性、选择性、稳定性和寿命

催化剂 催化剂在化工行业用于催化和加速化学反应。催化剂的造价通常比较高，用量比较少，由无机物衍生而成（如重金属）。催化剂用来为化学反应提供适合的场所，或者成为其中的一种反应物，以促进反应。在这两种情况下，催化剂的活性都是由催化剂与反应物质的接触状况（有效分散）决定的，不断扩充催化剂表面积（防止结块，缩小粒径等）可增强催化剂活性。实践证明，IKN工业设备可以保证催化剂活性得到*大程度的发挥。增加收益。IKN分散头的特殊设计确保完全分散，使催化剂与反应物完全接触。更值得一提的是，定转子的高剪切作用（详见技术信息）保证消除结块，恢复原有接触面，获得*佳反应收益率。

缩短工艺时间。由IKN工业设备在高速率下产生的高剪切作用，保证催化剂和反应物迅速的分散为一相，并加速反应。IKN工业设备输入的高能量也能帮助加速反应转化率。

 

催化剂高速胶体磨的粉碎效果 

影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

 

2 胶体磨磨头头的剪切速率  （越大，效果越好）

3 胶体磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）

4  物料在研磨腔体的停留时间，研磨粉碎时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

 

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =          v  速率 (m/s)  
                            g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm 

催化剂高速胶体磨  

 

流量*	输出	线速度	功率	入口/出口连接
类型	l/h	rpm	m/s	kW
CMD 2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CMD 2000/5	3000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CMD 2000/10	8000	4,200	23	22	DN80/DN65
CMD 2000/20	20000	2,850	23	37	DN80/DN65
CMD 2000/30	40000	1,420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	120000	1,100	23	110	DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到*大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度，稠度和*终产品的要求。

催化剂高速胶体磨 IKN 胶体磨   14000转胶体磨  催化剂高速胶体磨,催化剂胶体磨,14000转催化剂胶体磨,德国催化剂胶体磨,工业化高速胶体磨 氧化铝、SiO2-Al2O3、铁矾土、白土、氧化镁、硅胶、活性炭。