设备用途：
扩散炉是半导体加工中的典型热处理设备，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件、光导纤维等行业中进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。

产品描述：
◆软着陆载片装置
软着陆送料装置，避免了SiC桨的遮挡影响，提高了扩散均匀性。同时桨的清洗周期大幅度延长。
◆高精度温度控制
新型炉体设计，提高了温度稳定性；配合高精度温控仪的使用，保证工艺过程中温度的快速稳定。
◆高性能进口元器件组合
关键件采用进口管件，且为半导体级别；优质的元器件组合，从而保证成膜质量。

主要技术参数： 
◆工艺管数量：1-4管
◆工艺管口径：Φ90-360mm（3～12英寸）
◆结构型式：卧式热壁型
◆工作温度范围：400～1280℃
◆恒温区长度及精度±0.5℃/1080mm
◆工艺均匀性:≤±5％（30~60欧姆）
◆气体流量设定精度:±1％F.S
扩散炉，氧化扩散炉可进行定制。